靶材的分类有哪些 靶材的性能和指标

一靶材的分类有哪些

1根据不同材质划分

（1）金属靶材

镍靶Ni钛靶Ti锌靶Zn铬靶Cr镁靶Mg铌靶Nb锡靶Sn铝靶Al铟靶In铁靶Fe锆铝靶ZrAl钛铝靶TiAl锆靶Zr铝硅靶AlSi硅靶Si铜靶Cu钽靶Ta锗靶Ge银靶Ag钴靶Co金靶Au钆靶Gd镧靶La钇靶Y铈靶Ce不锈钢靶镍铬靶NiCr铪靶Hf钼靶Mo铁镍靶FeNi钨靶W等

（2）陶瓷靶材

ITO靶氧化镁靶氧化铁靶氮化硅靶碳化硅靶氮化钛靶氧化铬靶氧化锌靶硫化锌靶二氧化硅靶一氧化硅靶氧化铈靶二氧化锆靶五氧化二铌靶二氧化钛靶二氧化锆靶二氧化铪靶二硼化钛靶二硼化锆靶三氧化钨靶三氧化二铝靶五氧化二钽五氧化二铌靶氟化镁靶氟化钇靶硒化锌靶氮化铝靶氮化硅靶氮化硼靶氮化钛靶碳化硅靶铌酸锂靶钛酸镨靶钛酸钡靶钛酸镧靶氧化镍靶溅射靶材等

（3）合金靶材

铁钴靶FeCo铝硅靶AlSi钛硅靶TiSi铬硅靶CrSi锌铝靶ZnAl钛锌靶材TiZn钛铝靶TiAl钛锆靶TiZr钛硅靶TiSi钛镍靶TiNi镍铬靶NiCr镍铝靶NiAl镍钒靶NiV镍铁靶NiFe等

2根据不同应用方向划分

（1）半导体关联靶材

电极布线薄膜铝靶材铜靶材金靶材银靶材钯靶材铂靶材铝硅合金靶材铝硅铜合金靶材等

储存器电极薄膜钼靶材钨靶材钛靶材等

粘附薄膜钨靶材钛靶材等

电容器绝缘膜薄膜锆钛酸铅靶材等

（2）磁记录靶材

垂直磁记录薄膜钴铬合金靶材等

硬盘用薄膜钴铬钽合金靶材钴铬铂合金靶材钴铬钽铂合金靶材等

薄膜磁头钴钽铬合金靶材钴铬锆合金靶材等

人工晶体薄膜钴铂合金靶材钴钯合金靶材等

（3）光记录靶材

相变光盘记录薄膜硒化碲靶材硒化锑靶材锗锑碲合金靶材锗碲合金靶材等

磁光盘记录薄膜镝铁钴合金靶材铽镝铁合金靶材铽铁钴合金靶材氧化铝靶材氧化镁靶材氮化硅靶材等

二靶材的性能和指标

靶材制约着溅镀薄膜的物理力学性能影响镀膜质量因而要求靶材的制备应满足以下要求

1纯度要求杂质含量低纯度高靶材的纯度影响薄膜的均匀性以纯Al靶为例纯度越高溅射Al膜的耐蚀性及电学光学性能越好不过不同用途的靶材对纯度要求也不同一般工业用靶材纯度要求不高但就半导体显示器件等领域用靶材对纯度要求是十分严格的磁性薄膜用靶材对纯度的要求一般为99.9%以上ITO中的氧化铟以及氧化锡的纯度则要求不低于99.99%

2杂质含量靶材作为溅射中的阴极源固体中的杂质和气孔中的O2和H2O是沉积薄膜的主要污染源不同用途的靶材对单个杂质含量的要求也不同如半导体电极布线用的WMoTi等靶材对UTh等放射性元素的含量要求低于3*10-9光盘反射膜用的Al合金靶材则要求O2的含量低于2*10-4

3高致密度为了减少靶材中的气孔提高薄膜的性能一般要求靶材具有较高的致密度靶材的致密度不仅影响溅射时的沉积速率溅射膜粒子的密度和放电现象等还影响溅射薄膜的电学和光学性能致密性越好溅射膜粒子的密度越低放电现象越弱高致密度靶材具有导电导热性好强度高等优点使用这种靶材镀膜溅射功率小成膜速率高薄膜不易开裂靶材的使用寿命长且溅镀薄膜的电阻率低透光率高靶材的致密度主要取决于制备工艺一般而言铸造靶材的致密度高而烧结靶材的致密度相对较低因此提高靶材的致密度是烧结制备靶材的技术关键之一

4成分与组织结构均匀靶材成分均匀是镀膜质量稳定的重要保证尤其是对于复相结构的合金靶材和混合靶材如ITO为了保证膜质量要求靶中In2O3-SnO2组成均匀都为937或919（分子比）

5晶粒尺寸细小靶材的晶粒尺寸越细小溅镀薄膜的厚度分布越均匀溅射速率越快