至少有下列内容的工作需要进行烘烤
1.新带新灯丝使用前的真空除气.
2.消除或降低带材料中含有的某些杂质.带材料大都含有Na,K,Rb,Sr,Cs和Ba等杂质,Re中还常含有Mo,Ir中还常含有Rh184.在分析过程中,特别是初期,强烈碱金属离子流会引起空间电荷的影响,致使离子流散焦,分办恶化,严重时甚至会在源内形成喷镀.
3.某些样品,需要真空熔融涂样.
4.锻炼样品.一般情况下,样品涂好后最好先经过预热出气,为了维护离子源内的清洁,直接放到源内出气是很不合适的,如果样品中含有过量酸或有机杂质,或已知其他原因造成样品不纯,更应该进行这种预防性处理.经过锻炼的样品,离子发射的稳定性常有改进,
5.部分分馏.当某项分析受到来自样品或涂样过程中引进的杂质干扰时,为了减轻叠加影响,可以将涂好了的样品置于适宜的温度下进行分馏.
分馏实际上就是利用不同组分的不同消耗速率,进行消耗竟赛.为了进行真空烘烤,需要有一套辅助性真空系统,这套系统要独立于分析系统,商品仪器不少都附有这种装置如果没有也可以自己组装.[3]
家用真空机和外抽式真空机的区别如下：家用真空机是一种将物品装入包装袋，抽出包装袋内的空气，达到预定真空度后，完成封口工序的小型仪器。家用小型真空包装机适合于对各种食品、医药产品、五金元件、医疗器械等保存，防止包装袋内的物质变质。外抽式真空机是目前市场上最好的外抽式真空机，这是因为……阅读全文 >>
真空镀膜的特点真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固……阅读全文 >>
真空镀膜的分类介绍真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理……阅读全文 >>
基本概念真空烘烤一直是超高真空系统器壁去气的主要技术,它能大大降低器壁的出气率,从而获得超高真空。对于未经处理的各种材料表面,电子/离子轰击导致的解吸系数γ(每一入射电子或离子的解吸分子数)的典型值为1~10。真空烘烤使器壁有效地热解吸出气,从而能把光子/电子/离子解吸系数减少到……阅读全文 >>
真空镀膜的简述真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束……阅读全文 >>
