真空烘烤一直是超高真空系统器壁去气的主要技术,它能大大降低器壁的出气率,从而获得超高真空对于未经处理的各种材料表面,电子/离子轰击导致的解吸系数γ每一入射电子或离子的解吸分子数的典型值为1~10真空烘烤使器壁有效地热解吸出气,从而能把光子/电子/离子解吸系数减少到千分之一以下的允许值然而,对碳污染来说,单独的中温烘烤仅有一点点好处,器壁吸附的碳氢化合物将只是简单地解吸脱氢和脱水
为明显地减少表面碳,需要真空烘烤温度足够高,使能诱发碳的体积扩散图示出不锈钢和因科镍在烘烤至700~900℃期间的俄歇电子谱分析,所有数据点是样晶在给定温度下经过30~60min的热平衡后测出的可以看到:对不锈钢和因科镍应分别烘烤至450℃和600℃以上时,表面碳原子浓度开始快速下降
表面原子相对浓度与烘烤温度的关系曲线
为了保证全玻璃真空集热管的真空寿命达到10年左右,需要对玻璃外管的内壁内玻璃管的外壁包括膜系进行真空烘烤去气处理在这个过程中,膜系处于400℃,保温1个小时
真空烘烤应用至少有下列内容的工作需要进行烘烤1.新带、新灯丝使用前的真空除气.2.消除或降低带材料中含有的某些杂质.带材料大都含有Na,K,Rb,Sr,Cs和Ba等杂质,Re中还常含有Mo,Ir中还常含有Rh(184).在分析过程中,特别是初期,强烈碱金属离子流会引起空间电荷的影……阅读全文 >>
真空镀膜的简述真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束……阅读全文 >>
真空镀膜的特点真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固……阅读全文 >>
家用真空机和外抽式真空机的区别如下：家用真空机是一种将物品装入包装袋，抽出包装袋内的空气，达到预定真空度后，完成封口工序的小型仪器。家用小型真空包装机适合于对各种食品、医药产品、五金元件、医疗器械等保存，防止包装袋内的物质变质。外抽式真空机是目前市场上最好的外抽式真空机，这是因为……阅读全文 >>
真空镀膜的分类介绍真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理……阅读全文 >>
