真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较具有下列优点
1薄膜和基体选材广泛薄膜厚度可进行控制以制备具有各种不同功能的功能性薄膜
2在真空条件下制备薄膜环境清洁薄膜不易受到污染因此可获得致密性好纯度高和涂层均匀的薄膜
3薄膜与基体结合强度好薄膜牢固
4干式镀膜既不产生废液也无环境污染
真空镀膜技术主要有真空蒸发镀真空溅射镀真空离子镀真空束流沉积化学气相沉积等多种方法除化学气相沉积法外其他几种方法均具有以下的共同特点
1各种镀膜技术都需要一个特定的真空环境以保证制膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成蒸气分子的运动不致受到大气中大量气体分子的碰撞阻挡和干扰并消除大气中杂质的不良影响
2各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子以便把蒸发制膜的材料转化成气体由于源或靶的不断改进大大扩大了制膜材料的选用范围无论是金属金属合金金属间化合物陶瓷或有机物质都可以蒸镀各种金属膜和介质膜而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜
3蒸发或溅射出来的制膜材料在与待镀的工件生成薄膜的过程中对其膜厚可进行比较精确的测量和控制从而保证膜厚的均匀性
4每种薄膜都可以通过微调阀精确地控制镀膜室中残余气体的成分和质量分数从而防止蒸镀材料的氧化把氧的质量分数降低到最小的程度还可以充入惰性气体等这对于湿式镀膜而言是无法实现的
5由于镀膜设备的不断改进镀膜过程可以实现连续化从而大大地提高产品的产量而且在生产过程中对环境无污染
6由于在真空条件下制膜所以薄膜的纯度高密实性好表面光亮不需要再加工这就使得薄膜的力学性能和化学性能比电镀膜和化学膜好
真空镀膜的分类介绍真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理……阅读全文 >>
真空烘烤应用至少有下列内容的工作需要进行烘烤1.新带、新灯丝使用前的真空除气.2.消除或降低带材料中含有的某些杂质.带材料大都含有Na,K,Rb,Sr,Cs和Ba等杂质,Re中还常含有Mo,Ir中还常含有Rh(184).在分析过程中,特别是初期,强烈碱金属离子流会引起空间电荷的影……阅读全文 >>
家用真空机和外抽式真空机的区别如下：家用真空机是一种将物品装入包装袋，抽出包装袋内的空气，达到预定真空度后，完成封口工序的小型仪器。家用小型真空包装机适合于对各种食品、医药产品、五金元件、医疗器械等保存，防止包装袋内的物质变质。外抽式真空机是目前市场上最好的外抽式真空机，这是因为……阅读全文 >>
真空镀膜的简述真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束……阅读全文 >>
基本概念真空烘烤一直是超高真空系统器壁去气的主要技术,它能大大降低器壁的出气率,从而获得超高真空。对于未经处理的各种材料表面,电子/离子轰击导致的解吸系数γ(每一入射电子或离子的解吸分子数)的典型值为1~10。真空烘烤使器壁有效地热解吸出气,从而能把光子/电子/离子解吸系数减少到……阅读全文 >>
